用途
•高分子材料表面的官能基付與一粘合性、密著(zhù)性提高。通 過(guò)氧化反應，在表面生成-OH,>C=O,-COOH等官能 基（微量的水分及二氧化碳影響）。
同樣在氮氣等離子體中，氮原子被吸收在表面中，生
成-NH 2等官能基。
•硅晶圓蝕刻。
•材料表面改性（金屬、聚合物、薄膜、啕瓷等）。
•石棉預處理（膜過(guò)濾灰化）。
•從電子設備到生化市場(chǎng)。
•低溫灰化（高分子材料、煤炭、食品等）。
•使用玻璃和PDMS板粘貼PDMS芯片。
•表面有機物去除。
■特點(diǎn)
• RF為200 W的高性能輸出類(lèi)型（PR200）。
•由于是尺寸緊湊的臺式機，很小的位置都可以安裝。
•同步，自動(dòng)調諧，操作簡(jiǎn)單（PR200）。
•等離子體反應器（灰化設備）（PR200）。
•同步、自動(dòng)調諧（PR200）。